印制板及其組件(PCB&PCBA)是電子產(chǎn)品的核心部件,PCB&PCBA的可靠性直接決定了電子產(chǎn)品的可靠性。為了保證和提高電子產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性,對失效進行全面的理化分析,確認(rèn)失效的內(nèi)在機理,從而有針對性地提出改善措施。
電子元器件失效分析的目的是借助各種測試分析技術(shù)和分析程序確認(rèn)電子元器件的失效現(xiàn)象,分辨其失效模式和失效機理,確認(rèn)最終的失效原因,提出改進設(shè)計和制造工藝的建議,防止失效的重復(fù)出現(xiàn),提高元器件可靠性。
集成電路復(fù)雜度與性能要求的持續(xù)攀升,疊加設(shè)計、制造、封裝及應(yīng)用環(huán)節(jié)的潛在風(fēng)險,導(dǎo)致短路、開路、漏電、燒毀、參數(shù)漂移等關(guān)鍵失效模式頻發(fā)。這不僅造成昂貴的器件報廢與系統(tǒng)宕機,更常引發(fā)設(shè)計方、代工廠、封測廠與終端用戶間的責(zé)任爭議,帶來重大經(jīng)濟損失與信譽風(fēng)險。
高分子材料性能要求持續(xù)提升,而客戶對高要求產(chǎn)品及工藝的理解差異,導(dǎo)致斷裂、開裂、腐蝕、變色等典型失效頻發(fā),常引發(fā)供應(yīng)商與用戶間的責(zé)任糾紛及重大經(jīng)濟損失。
金屬構(gòu)件服役環(huán)境日益苛刻,對材料性能和結(jié)構(gòu)可靠性提出更高要求。然而,設(shè)計缺陷、材料瑕疵、制造偏差或不當(dāng)使用等因素,極易引發(fā)疲勞斷裂、應(yīng)力腐蝕開裂、氫脆、蠕變、磨損、過載變形等典型失效。
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助焊劑與PCBA兼容問題竟會導(dǎo)致這么嚴(yán)重的后果?!

發(fā)布時間: 2025-07-03 00:00
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某音響產(chǎn)品PCBA板(波峰焊工藝)在使用中發(fā)生燒毀,原使用A款助焊劑時失效率高,清洗后略降,更換B款助焊劑后不良率歸零。本文將通過一系列專業(yè)的檢測分析手段找尋其失效原因。


1.外觀分析

由外觀觀察可知,NG-0#板燒毀最嚴(yán)重,其中電阻R1出現(xiàn)燒焦開裂現(xiàn)象,PWM控制芯片U1出現(xiàn)燒毀開裂現(xiàn)象,二極管D1與電阻R1及MOSFET Q1的PCB板表面有燒焦痕跡,電容C2表面存在略微燒焦痕跡;NG-1#板燒毀現(xiàn)象與NG-0#現(xiàn)象一致,NG-2#和NG-3#板觀察到電阻R1出現(xiàn)開裂;同時NG-1#~3#板中的MOSFET Q1中的PCB板焊接面的引腳之間發(fā)現(xiàn)有類似電遷移的異物。

外觀分析

2.電學(xué)性能檢查與分析

NG-0#中PCBA樣品上外觀存在異常的電子元器件有:MOSFET Q1、二極管D1、電容C2、電阻R1以及PWM控制芯片U1(ITP-LD7535-DIP8)。

電學(xué)性能檢查與分析

A. 器件電性能測試

PWM控制芯片U1已經(jīng)裂開,對上述其余相關(guān)電子元器件進行電性能測試,結(jié)果顯示:MOSFET Q1引腳間短路;二極管D1和電容C2的電學(xué)性能并未受到較大影響;電阻R1呈現(xiàn)開路狀態(tài)。

器件電性能測試

B. 開封檢查

對MOSFET Q1、電阻R1以及PWM控制芯片U1進行開封觀察。開封結(jié)果顯示:MOSFET Q1 G電極附近絕緣層已被嚴(yán)重?fù)p壞,屬于典型的過電擊穿現(xiàn)象,S電極附近也存在放電燒灼痕跡;碳膜電阻R1上的導(dǎo)電膜層大面積脫落,表面存在灼燒痕跡,且與外觀檢查中所觀察到的裂縫位置對應(yīng);PWM控制芯片U1內(nèi)部已被燒毀,且燒毀現(xiàn)象在PIN4表現(xiàn)最為明顯。結(jié)合電性能測試和開封實驗結(jié)果,可初步判斷器件損壞是由過電流和過壓引起。

開封檢查

開封檢查

C. 電路分析

問題聚焦于如圖所示的反激式開關(guān)電源電路中,與外觀異常直接相關(guān)的電路設(shè)計主要包括:吸收回路和PWM控制電路。

電路分析

吸收回路在電路中的主要作用是吸收MOSFET在高頻工作狀態(tài)下引起的尖峰反電壓和電流,如果尖峰電壓和電流不能被有效吸收,將會對電路的可靠性造成影響。對吸收回路排查顯示:吸收回路(含220K電阻、電容C2、二極管D1)電性能正常,尖峰電壓吸收功能未失效。這表明吸收回路未受到影響,且應(yīng)工作正常。

器件損壞出現(xiàn)在控制電路部分,上文已初步分析出器件損壞的直接原因是過流和過壓。光耦是初級電路(圖7綠線左側(cè))與次級電路(圖7綠線右側(cè))直接相連的唯一器件,對光耦進行測試以確定過電流和過電壓是否來源于次級電路,結(jié)果表明光耦工作響應(yīng)正常(圖8),且次級電路產(chǎn)生過流和過壓的可能性很小,可以排除次級電路的影響。

電路分析




綜上所述,電路分析范圍可縮小到如圖8所示的部分。這部分電路中工作在高壓狀態(tài)下的只有MOSFET Q1。電阻R1(0.36Ω/1W)在電路中起反饋和限流作用,該電阻由于過流損壞,基本可以確定其所在電路有大電流通過,結(jié)合開封檢查中PIN4的損傷最為明顯的現(xiàn)象,可以得出結(jié)論:過電流是由于MOSFET Q1被擊穿所致。

電路分析




3.SEM+EDS分析

對失效PCBA板上MOSFET Q1焊接面PCB板上G和D引腳之間的異物成分進行成分分析,結(jié)果如下:

NG-1#:通過EDS成分分析可知,異物區(qū)主要成分為C、O、Mg、Si、Cl、Br、Sn元素,通過放大觀察及成分確認(rèn),異物主要成分應(yīng)為錫渣,且在MOSFET Q1中的PCB板焊接面的引腳之間的Sn含量均很高,而遠(yuǎn)離MOSFET Q1中的PCB板焊接面的引腳之間的位置Sn含量明顯下降,由于該PCBA的MOSFET Q1的工作區(qū)域電壓高達(dá)600V,由此推測,造成MOSFET Q1擊穿的原因是引腳之間的錫渣殘留。

SEM+EDS分析

對A款和B款助焊劑的成分進行成分分析發(fā)現(xiàn):A款助焊劑在銅板上的殘留較多,B款助焊劑在銅板上的殘留很少,兩款助焊劑的主要成分都是C、O、Br。

SEM+EDS分析

SEM+EDS分析




4.離子濃度測試分析

對NG板和OKPCBA板按照IPC-TM-650. 2.3.25C 溶劑萃取的電阻率(ROSE)進行NaCl當(dāng)量測量,結(jié)果顯示:失效板(NG-2#)表面離子濃度1.072μg NaCl/cm2,符合標(biāo)準(zhǔn)(≤1.56);正常板(OK)離子濃度2.580μg,超標(biāo)但未燒毀。說明表面離子不是導(dǎo)致PCBA燒毀的主要原因。

離子濃度測試分析

離子濃度測試分析

5.助焊劑的表面絕緣電阻測試

對A款和B款助焊劑的表面絕緣電阻進行測試,A款助焊劑的表面絕緣電阻大概在1011~1012歐姆之間,B款助焊劑的表面絕緣電阻大概在108~109歐姆之間,均滿足大于108的標(biāo)準(zhǔn)要求,由此說明助焊劑的離子殘留不是造成PCBA燒毀的原因。

助焊劑的表面絕緣電阻測試

助焊劑的表面絕緣電阻測試

助焊劑的表面絕緣電阻測試

助焊劑的表面絕緣電阻測試

導(dǎo)致該PCBA燒毀的直接原因為MOSFET Q1焊接面的引腳之間殘留錫渣,加之助焊劑殘留,導(dǎo)致PCB的絕緣耐壓性能下降。結(jié)合工藝改善反饋,更換助焊劑后不良率大幅下降,說明導(dǎo)致板燒毀的根本原因應(yīng)該為助焊劑與PCB板兼容性存在問題。




6.總結(jié)

 PCBA燒毀的直接原因為,波峰焊后MOSFET引腳間存在大量的錫,加之助焊劑本身的離子殘留,導(dǎo)致PCB絕緣耐壓性能下降;根本原因在于助焊劑與PCB板間存在兼容性問題。



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