河南某材料研究院定制一臺PECVD氣相沉積設備

PECVD設備成品視頻展示

客戶背景

河南某材料研究院是一家專注于新材料研發的科研機構，主要研究半導體薄膜、納米材料及先進涂層技術。該研究院需要一臺PECVD（等離子增強化學氣相沉積）設備，用于高質量薄膜制備，以滿足其在光電子材料、半導體器件及功能涂層方面的研究需求。

需求分析

客戶希望定制的PECVD設備具備以下核心要求：

沉積材料：能夠沉積Si、SiNx、SiO?及DLC等多種薄膜材料。

基片尺寸：支持直徑4英寸及6英寸的基片，兼容實驗室小批量制備。

氣體系統：支持SiH?、NH?、O?、CH?等多種氣體，實現不同材料的沉積需求。

溫度控制：加熱溫度可達800℃，保證薄膜質量。

等離子體源：采用13.56MHz射頻電源，確保等離子體均勻穩定。

真空系統：配置高性能機械泵+分子泵，極限真空度可達10??Pa。

自動化控制：采用PLC+觸摸屏操作，提供全自動沉積流程，提升實驗效率。

設備解決方案

針對客戶需求，我們設計并制造了一臺高精度PECVD氣相沉積設備，具體配置如下：

沉積腔體：采用高真空不銹鋼反應腔，內壁鏡面拋光，減少顆粒污染。

射頻電源：配置13.56MHz射頻電源，并搭配匹配網絡，提高等離子體穩定性。

氣體輸送系統：四路MFC(質量流量控制器)精確控制氣體流量，確保沉積工藝穩定。

溫控系統：采用精密PID控溫技術，保證基片均勻受熱。

真空系統：采用進口分子泵與機械泵組合，實現高真空環境，減少雜質影響。

自動化控制：PLC+觸摸屏人機界面，實現一鍵啟動、實時數據監測、歷史記錄查詢等功能。

設備交付與客戶反饋

設備完成制造后，我們進行了嚴格的工廠測試(FAT)，并在客戶實驗室進行了現場安裝調試(SAT)。經過一系列工藝測試，設備的沉積均勻性、膜層厚度精度、重復性等均達到了客戶預期。

客戶反饋：

? 膜層均勻性良好，滿足科研需求

? 操作便捷，自動化程度高，極大提升了實驗效率

? 真空系統穩定，等離子體控制精準，確保實驗重復性

結語

本次PECVD設備定制項目圓滿完成，設備已穩定運行，并為客戶的科研工作提供了強有力的支持。作為實驗室真空設備專業供應商，我們將持續優化產品，助力更多科研機構實現高端薄膜材料制備需求。

如您有PECVD設備需求，歡迎聯系我們!