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在高純度石英玻璃制備中,羥基(OH?)是影響其光學、熱學性能的關鍵雜質。采用氧化鋁爐膛、石英玻璃爐管,工作溫度達1200℃的立式真空脫羥爐,結合PLC自動化控制,為半導體、光纖及光學領域提供了一種高效、經濟且潔凈的脫羥基解決方案。
一個經常被問到的問題是我們實驗室現有的管式爐,能不能直接用來做CVD實驗呢?答案是可以,但有嚴格的限制條件。
在現代熱處理行業中,真空淬火爐具有突出的節能、高效、環保和工藝可控性強等優勢,了解其工作原理,有助于企業在設備選型和工藝優化上做出科學決策。