華為技術有限公司定制鄭州博納熱電爐外加熱式氣氛爐發貨
- 所屬欄目:氣氛爐案例
- 發布時間: 2025-05-08
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客戶背景
華為技術有限公司作為全球領先的通信技術解決方案提供商，在半導體材料、新型電子元件研發等領域對高溫熱處理設備提出了嚴苛要求。需定制一款外加熱式氣氛爐，用于氮化硅等半導體材料的實驗和小批量生產，要求設備具備高精度控溫、預抽真空、惰性氣體保護及快速交付能力。
需求分析
1、技術需求
溫度范圍：需覆蓋室溫至1000℃，長期穩定運行。
控溫精度：±1℃，支持多段編程自動控溫。
氣氛控制：預抽真空至-0.08MPa，通入氮氣或氬氣以降低氧含量。
結構設計：全密閉爐膛，雙層風冷外殼，確保安全性和散熱效率。
2、定制化需求
爐膛尺寸：根據華為實驗樣品規格，定制300×300×400mm的爐膛空間。
配件擴展：集成觸摸屏操作界面、三路氣體流量控制系統及直連式真空泵。
3、交付要求
快速生產：從下單到交付需在30天內完成。
技術支持：提供現場安裝調試及終身維護服務。
解決方案
鄭州博納熱窯爐有限公司基于其箱式氣氛爐得基礎上，為華為量身定制了BR-TF1000外加熱式氣氛爐，具體方案如下：
1、核心參數優化
溫度控制：采用工業級0.2精度PID儀表，50段可編程曲線，支持0-20℃/分鐘加熱速率，確保材料處理工藝的精確復現。
爐膛尺寸：φ400x600mm
真空與氣氛系統：預抽真空后通入氮氫混合氣體，并通過浮子流量計實現氣體流量精準調節。
2、定制化功能升級
智能交互：集成7寸觸摸屏及電腦連接軟件，支持工藝曲線存儲與遠程監控。
安全防護：超溫報警、熱電偶斷裂保護及漏電斷路器，符合實驗室安全標準。
3、罐體外熱式氣氛爐技術參數
| 序號 | 技術參數 | BR-TF1000 |
|---|---|---|
| 1 | 額定加熱功率 | 40KW（±10%） |
| 2 | 設計溫度 | 1000℃ |
| 3 | 長期工作溫度 | ≤1000℃(此溫度為驗收溫度) |
| 4 | 加熱元件 | 北京首鋼HRE絲 |
| 5 | 控溫精度 | 充氣時±2℃；穩定時±1℃ |
| 6 | 溫度均勻性 | 1000℃時三芯熱電偶檢測有效工作區±5℃ |
| 7 | 爐膛尺寸(寬×高×長) | φ400x600mm |
| 8 | 工作壓力 | ≤0.03MPa |
| 9 | 冷態極限真空度 | 7X10-3Pa（空爐并經凈化） |
| 10 | 測溫傳感器 | K型熱電偶 |
| 11 | 冷卻方式 | 充氣自然冷卻 |
| 12 | 保護氣氛 | 氧氣、氮氣、氬氣、空氣等 |
| 14 | 控制方式 | 手動/自動自由切換 |
| 15 | 爐體加熱方式 | 熱壁式加熱（外加熱） |
| 17 | 控制方式 | PID控制 |
| 18 | 升溫速率 | ≤10℃/min |
3、交付與服務
依托博納熱自有生產線，30天內完成設備組裝并通過72小時老化測試。
提供一年整機質保及成本價配件供應，技術人員現場調試并培訓操作流程。
實施效果
效率提升：設備交付后，華為實驗室成功將氮化硅燒結周期縮短30%，良品率提升至98%以上。
工藝適配性：多段編程功能支持復雜熱處理曲線，滿足半導體材料研發的多樣化需求。
長期合作：基于此次合作，華為與博納熱簽署戰略協議，后續定制多臺大功率氣氛爐用于6G材料量產。
客戶評價
“博納熱團隊的專業性和響應速度令人印象深刻，定制化方案完全契合我們的技術要求，設備運行穩定，為研發效率提供了有力保障。”
——華為材料實驗室負責人
案例總結
鄭州博納熱通過技術定制+快速交付模式，為華為提供了高性能外加熱式氣氛爐，展現了其在高溫設備領域的技術積累與服務能力。
鄭州博納熱電爐工廠實景
