產品介紹
PECVD管式爐又叫做等離子增強化學氣相沉積(PECVD)的設備，是制造半導體器件和電池（電池片、正負極電池材料等）、晶體生長（石墨烯生長、磚石生長等材料）的重要工具之一。
PECVD系統(tǒng)是借助微波或射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，合成高質量的薄膜材料，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
PECVD管式爐
PECVD管式爐的組成結構
PECVD管式爐結構圖
PECVD設備實拍
PECVD管式爐的工作原理
PECVD是通過外部增加的電場作用于系統(tǒng)內參與反應的氣體，使氣體電離產生輝光放電效應，從而可以在基體上高速沉積薄膜，是CVD中最大的細分市場。
在高溫和低壓的條件下，利用微波或射頻等離子體增強化學反應，氣態(tài)物質經過化學反應生成固態(tài)物質，并在基材表面沉積形成薄膜。這個過程可以通過調節(jié)溫度、壓力、微波或射頻功率等參數(shù)來控制薄膜的生長和性質。
PECVD管式爐的應用領域
半導體制造：
PECVD管式爐可用于制造半導體器件和集成電路，如存儲器、微處理器、光電傳感器等。
光伏電池制造：
PECVD管式爐可用于制造高效光伏電池，如硅基光伏電池、化合物光伏電池等。
光學器件制造：
PECVD管式爐可用于制造光學器件，如光學濾波器、光學薄膜等。
電子器件制造：
PECVD管式爐可用于制造各種電子器件，如薄膜電阻、電容、電感等。
納米材料制備：
PECVD管式爐可用于制備各種納米材料，如納米晶體、納米纖維等。
PECVD管式爐是一種重要的實驗設備，在半導體制造、光伏電池制造、光學器件制造、電子器件制造等領域有著廣泛的應用。它具有等離子增強化學反應、高溫、低壓環(huán)境、高質量薄膜、多樣的化學反應、
設備應用
針對材料的高溫燒結工藝保證耐熱及絕緣性可靠性設計，新型電極結構避免了高溫爐電極漏水現(xiàn)象，并且加熱系統(tǒng)中的易損部件更便于維修和更換。
耐熱性高
安全性好
維修高效
PECVD管式爐主要用于
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硬質合金
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陶瓷（氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷等）
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磁性材料
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粉末材料
